物理气相沉积
物理气相沉积（英語：，PVD）是一種工業製造上的工藝，是主要利用物理过程来沉积薄膜的技术，即真空鍍膜(蒸鍍)，多用在切削工具與各種模具的表面處理，以及半導體裝置的製作工藝上。
和化学气相沉积相比，物理气相沉积适用范围广泛，几乎所有材料的薄膜都可以用物理气相沉积来制备，但是薄膜厚度的均匀性是物理气相沉积中的一个问题。
主要的物理气相沉积的方法有[1]：
| 物理气相沉积 |
| |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
参见
- 表面处理
外部連結
- Society of Vacuum Coaters
- PVD Animation—an animation of a generic PVD sputter tool
- Physical vapor deposition
This article is issued from Wikipedia. The text is licensed under Creative Commons - Attribution - Sharealike. Additional terms may apply for the media files.