軟微影技術
軟微影技術(soft lithography),又稱軟微影製程、可撓性奈米轉印[1]、軟蝕刻技術或軟光刻技術,是一種用軟性高分子材質做成的可撓性刻印的模具,在模具上面塗佈具有自我組合性能的單元分子(SAM, Self-Assembly Monomer)後,像印章一樣,在鍍金的薄膜基板上微壓,把奈米圖形模子上面凸出部分的自我組合性能的單元分子(SAM)像油墨一樣的印在金薄膜上[2]。
優點
軟微影技術具有一些獨特的優勢比其他形式的微影(光刻)技術(如光刻和電子束光刻)。 它們包括以下內容:
1.更低的成本比傳統微影技術大量生產。
2.非常適合應用在生物技術。
3.非常適合應用在塑膠電子。
4.非常適合於超大型平面,或及非平面(nonflat)微影。
5.不需要製作光罩,即可製造一個小的細節設計比一般微影實驗室設備的(30〜100納米)差不多[3]。
缺點
現在的積體電路包含了好幾層不同的材料,PDMS壓模的扭曲變形會導致複製圖案的小誤差,也使上下層做好的圖形排列得不整齊。即使是最微小的排列誤差或扭曲,都會損壞多層奈米電子裝置。因此,軟蝕刻法不適合製造需要精準堆疊的多層結構。此缺點可藉熱壓成形式奈米壓印或步進光感式奈米壓印來改善之[4]。
參考資料
- Xia, Y.; Whitesides, G. M. . Angew. Chem. Int. Ed. Engl. 1998, 37: 551–575. doi:10.1002/(SICI)1521-3773(19980316)37:5<550::AID-ANIE550>3.0.CO;2-G.
- Xia, Y.; Whitesides, G. M. . Annu. Rev. Mater. Sci. 1998, 28: 153–184. doi:10.1146/annurev.matsci.28.1.153.
- Quake, S. R.; Scherer, A. . Science. 2000, 290 (5496): 1536–1540. PMID 11090344. doi:10.1126/science.290.5496.1536.
- http://140.112.43.210/STUDY/%E5%A1%91%E8%86%A0%E5%8A%A0%E5%B7%A5%E8%AA%B2%E7%A8%8B/%E5%A1%91%E8%86%A0%E5%8A%A0%E5%B7%A5%E6%9C%9F%E6%9C%AB%E5%A0%B1%E5%91%8A%E7%B8%BD%E6%95%B4%E7%90%86/%E7%AC%AC10%E7%B5%84_%E5%A5%88%E7%B1%B3%E5%A3%93%E5%8D%B0/new_page_6.htm%5B%5D
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- Waldner, Jean-Baptiste. . London: ISTE John Wiley & Sons. 2008: 93. ISBN 1847040020.
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