甲硅烷

甲硅烷英語:),也稱甲烷矽甲烷化学式SiH4,是一种硅烷;有时也被简称为硅烷(勿混淆)。它的结构与甲烷类似,只是用取代了甲中的。在室温下,硅烷是一种易燃的气体,在空气中,无需外加火源,硅烷就可以自燃。但是有学者认为,硅烷本身是很稳定的,在自然状态下,是以聚合物的状态存在的。在超过420摄氏度的环境下,硅烷会分解成硅和氢,因此硅烷可以被用来以薄膜沉積提纯硅,是半導體工業重要的特用電子級氣體之一[1]

甲硅烷
甲硅烷
硅烷
IUPAC名
silicane
别名 硅化氢
硅烷
识别
CAS号 7803-62-5  
PubChem 23953
ChemSpider 22393
SMILES
InChI
InChIKey BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYAE
Gmelin 273
UN编号 2203
ChEBI 29389
RTECS VV1400000
性质
化学式 SiH4
摩尔质量 32.12 g mol−1 g·mol¹
外观 无色气体
密度 ? kg m−3(固态)
0.7 g/ml(液态)
1.342 g L−1(气态)
熔点 88 K (−185°C)
沸点 161 K (−112°C)
溶解性 水解
结构
分子构型 正四面体
偶极矩 0 D
热力学
ΔfHmo298K -1615 kJ mol−1
So298K 283 J mol−1 K−1
危险性
主要危害 毒性较低,避免暴露。可能造成红肿和发炎。极易燃烧。
NFPA 704
4
2
3
 
闪点 N/A
自燃温度 294 K (21°C)
相关物质
相关氢化物 甲烷甲锗烷
若非注明,所有数据均出自一般条件(25 ℃,100 kPa)下。

制备

工業上,多晶塊狀硅首先在摄氏200度置於流床反應器下化合:硅與通入的氯化氢形成三氯硅烷氫氣。反應式如下:

Si + 3 HCl → HSiCl3 + H2

將經過蒸餾純化的三氯化硅置於有催化劑的resinous bed反應器而產生歧化反應,形成硅烷和四氯化硅。反應式如下:

4 HSiCl3 → SiH4 + 3 SiCl4

此反應的催化劑常以金屬鹵化物爲主,尤其是氯化鋁

安全

矽烷在空氣中爆炸性極高,尤其與氮氣等氣體混在一起爆炸性更高,只要1%的矽烷和純氮就有可能引發爆炸。另外矽烷對眼睛具有刺激性。

參見

參考資料

  1. (PDF). [2018-07-02]. (原始内容 (PDF)存档于2015-09-21).
This article is issued from Wikipedia. The text is licensed under Creative Commons - Attribution - Sharealike. Additional terms may apply for the media files.