甲锗烷

甲锗烷锗烷(GenH2n+2)中最简单的一种,分子式为GeH4。和同族的甲烷甲硅烷一样,甲锗烷也是正四面体结构。甲锗烷在空气中燃烧生成二氧化锗

甲锗烷
甲锗烷的球棒模型
甲锗烷的空间填充模型
IUPAC名
germane
别名 四氢化锗
识别
CAS号 7782-65-2  
PubChem 23984
ChemSpider 22420
SMILES
InChI
InChIKey QUZPNFFHZPRKJD-UHFFFAOYAE
UN编号 2192
ChEBI 30443
KEGG C15472
性质
化学式 GeH4
摩尔质量 76.62 g·mol¹
外观 无色气体
密度 (气)3.3 * 103
熔点 −165 °C (108 K)
沸点 −88 °C (195 K)
溶解性 难溶
结构
分子构型 正四面体
偶极矩 O D
危险性
主要危害 有毒,可燃
NFPA 704
3
4
0
 
闪点 可燃氣體
相关物质
其他阴离子 四氯化锗
相关氢化物 甲烷甲硅烷甲锡烷铅烷
若非注明,所有数据均出自一般条件(25 ℃,100 kPa)下。

合成

甲锗烷可通过以下方法合成:

Na2GeO3 + NaBH4 + H2 → GeH4 + NaBO2 + 2NaOH
  • 电化学还原法:锗作阴极正极。反应时阴极产生甲锗烷和氢气,阳极生成钼或镉的氧化物
  • 等离子合成法:用原子氢轰击锗,得到甲锗烷和乙锗烷

自然含量

木星的大气中检测到了甲锗烷的存在[3]

用途

甲锗烷在600K时分解为锗和氢气。这种对热不稳定性被用于半导体工业中,即有机金属化学气相沉积法(MOCVD)[4]。由于甲锗烷毒性较大,某些有机锗化合物(如异丁基锗)可以替代甲锗烷,应用于MOCVD中[5]

安全

甲锗烷可燃,并且有自燃的可能性。甲锗烷有毒。

参考资料

  1. US Patent 7,087,102 (2006)
  2. Girolami, G. S.; Rauchfuss, T. B. and Angelici, R. J., Synthesis and Technique in Inorganic Chemistry, University Science Books: Mill Valley, CA, 1999.
  3. Kunde, V.; Hanel, R.; Maguire, W.; Gautier, D.; Baluteau, J. P.; Marten, A.; Chedin, A.; Husson, N.; Scott, N. . Astrophysical J. 1982, 263: 443–467. doi:10.1086/160516.
  4. Venkatasubramanian, R.; Pickett, R. T.; Timmons, M. L. . Journal of Applied Physics. 1989, 66: 5662–5664. doi:10.1063/1.343633.
  5. E. Woelk, D. V. Shenai-Khatkhate, R. L. DiCarlo, Jr., A. Amamchyan, M. B. Power, B. Lamare, G. Beaudoin, I. Sagnes. . Journal of Crystal Growth. 2006, 287 (2): 684–687 [2008-02-18]. doi:10.1016/j.jcrysgro.2005.10.094. (原始内容存档于2008-05-24).

外部链接

This article is issued from Wikipedia. The text is licensed under Creative Commons - Attribution - Sharealike. Additional terms may apply for the media files.