艾司摩爾

1984年從荷蘭著名電子製造商飛利浦獨立，此後致力於大規模積體電路製造設備的研究和製造。根據摩爾定律不斷為提高單位面積集成度作貢獻。2007年已經能夠提供製造37nm線寬積體電路的光刻機。

製造大規模積體電路時要對半導體晶圓曝光3、40次。为在不降低品質的情況下減少曝光次數，阿斯麦公司在曝光机上使用德國蔡斯公司的光路系統，鏡頭使用螢石和石英製造。

光刻机是高附加值產品，一台新的曝光機動輒3000至5000萬美元。而研發週期長，投入資金也相當巨大。

阿斯麦公司為半導體生產商提供光刻機及相關服務，TWINSCAN系列是目前世界上精度最高，生產效率最高，應用最為廣泛的高端光刻机型。目前全球絕大多數半導體生產廠商，都向ASML採購TWINSCAN機型，例如英特爾、三星、海力士、台積電、聯電、格羅方德及其它台灣十二吋半導體廠。

目前已經商用的最先進機型是Twinscan NXE 3400c ，每小時單位產出為170片（WPH）12英寸晶片，屬於極紫外線曝光（EUV）機型，用來生產關鍵尺度低於7納米的集成電路。

除了目前致力於開發的TWINSCAN平台外，阿斯麦公司還在積極與IBM等半導體公司合作，繼續研發光刻技術，比如極紫外光刻（EUV），用於關鍵尺度在22納米甚至更低的集成電路製造。目前阿斯麦公司已經向客戶遞交若干台EUV機型，用於研發和實驗。同時，基於傳統TWINSCAN平台研發的雙重曝光技術也對光刻技術做出了大量的貢獻。早在07年末，三星宣布成功生產的36nm NAND Flash，基於的便是技術（double patten）。

2012年7月10日英特爾斥資41億美元收購荷蘭晶片設備製造商阿斯麦公司的15%股權，另出資10億美元，支持阿斯麦公司加快開發成本高昂的晶片製造科技。先以21億美元，收購阿斯麦公司10%股權，待股東批准後，再以10億美元收購5%股權，投注金額將以發展450mm機台以及EUV研發製造10nm技術為兩大主軸。

2012年8月5日台積電宣佈加入荷蘭艾司摩爾公司所提出的「客戶聯合投資專案」（Customer Co-Investment Program），根據協議，台積電將投資ASML達8.38億歐元，取得阿斯麦公司約5%股權，未來5年並將投入2.76億歐元，支持阿斯麦公司的研發計畫。

2012年8月27日三星宣布斥資5.03億歐元入股以荷蘭為基地的晶片商阿斯麦公司3%股權，並額外注資2.75億歐元合作研發新技術。

2012年10月17日ASML Holding NV（ASML）與Cymer (CYMI)宣布簽訂合併協議，阿斯麦公司將以19.5億歐元收購Cymer所有在外流通股票，收購Cymer目的在於加速開發Extreme Ultraviolet半導體蝕微影技術，兩家公司董事會一致通過這件交易，Cymer股東將以每股收取20萬美元現金和1.1502股ASML普通股，收購價比Cymer過去30日均價高出61%。

2016年6月16日ASML宣布將以每股1410元新台幣現金，斥資約27.5億歐元（1千億元新台幣）收購台灣上櫃公司電子束檢測設備商漢民微測科技股份有限公司（漢微科）（臺證所：3658-TW）[1]全部流通在外股份，將以其在台灣100%持股子公司艾普思隆進行股份轉換，此作業在2016年第四季完成[2]。

2016年11月4日ASML以10億歐元現金收購德國蔡司公司(ZEISS)子公司蔡司半導體(Carl Zeiss SMT)24.9%股份

据 Bloomberg数据，2018年全球五大半导体设备制造商分别为應用材料（AMAT）、艾司摩爾（ASML）、東京威力科創（TEL）、科林研發（Lam Research）、科磊（KLA），这五大半导体制造商在2018年以其领先的技术、强大的资金支持占据着全球半导体设备制造业超过 70%的份额。

• 2005年銷售額25億2900萬歐元，利潤3億1100萬歐元。
• 2006年销售額35億9700萬欧元，利潤6億2500萬歐元。生產台數266，簽约機台數334，待生產機台數163。
• 2007年銷售額38億900萬歐元，利潤6億8800萬歐元。生產台數196，簽约機台數160，待生產機台數95。
• 2008年銷售額29億5000萬歐元，利潤3億2000萬歐元。
• 2009年銷售額15億9600萬歐元，利潤1億5000萬歐元。
• 2010年銷售額45億700萬歐元，利潤10億200萬歐元。
• 2011年銷售額56億5000萬歐元，利潤14億6700萬歐元。
• 2012年銷售額47億3200萬歐元，利潤11億4600萬歐元。
• 2013年銷售額52億4500萬歐元，利潤10億1500萬歐元。
• 2014年銷售額58億5600萬歐元，利潤11億9600萬歐元。
• 2015年銷售額62億8700萬歐元，利潤13億8700萬歐元。
• 2016年銷售額67億9500萬歐元，利潤14億7200萬歐元。
• 2017年銷售額90億5300萬歐元，利潤21億1900萬歐元。

目前市場上提供量產商用的曝光機廠商有艾司摩爾、尼康（Nikon）、佳能（Canon）三家，根據2007年的統計數據，在中高階曝光機市場，艾司摩爾公司佔據大約60%的市場佔有率。而最高階市場（immersion），艾司摩爾公司大約目前佔據90%的市場佔有率，在10奈米節點以下取得100%市佔率，同業競爭對手已無力追趕。

據VLSI Research統計，2008年艾司摩爾在半導體元件設備製造商中超過東京電子成為世界第2位。

2010年，以銷售額計算艾司摩爾公司高階曝光機市占率已達到將近90%。

2011年艾司摩爾公司於半導體設備商已超過美廠應用材料成為世界第一大半導體設備商。

• 科磊

• ASML官方网站