130纳米制程

130纳米制程，又稱0.13微米製程，是半导体制造制程的一个水平，大约于2000年至2001年左右达成。[1][2] 这个是由当时的领先半导体公司如英特尔、德州仪器、IBM和台積電所完成。

10 µm – 1971年 6 µm – 1974年 3 µm – 1977年 1.5 µm – 1982年 1 µm – 1985年 800 nm – 1989年 600 nm – 1994年 350 nm – 1995年 250 nm – 1997年 180 nm – 1999年 130 nm – 2001年 90 nm – 2004年 65 nm – 2006年 45 nm – 2008年 32 nm – 2010年 22 nm – 2012年 14 nm – 2014年 10 nm – 2017年 7 nm – 2018年 5 nm – 2020年 3 nm – ~2022年 2 nm – ~2024年
晶體管數量

一些CPU最初是由这个制程所制造。其中包括英特尔奔腾III Tualatin处理器。这是第一个沟道长度小于用于光刻的光的波长的制程。