5纳米制程

5纳米制程是半导体制造制程的一个水準。在半导体器件制造中，《國際器件和系統路線圖》將5納米工藝定義為繼7納米之後MOSFET技術節點。商用5納米製程基於具有FinFET（鰭式場效應晶體管）的多閘極電晶體（MuGFET）技術。還有已經證明的5納米GAAFET（環繞柵場效應晶體管）技術，但尚未商業化。2020年初，三星電子和台積電已經開始5納米製程的有限風險試產，並計劃在2020年底開始批量生產[1][2]。2020年9月15日，由台積電製造的Apple A14 Bionic成為首個公開發表的5纳米制程晶片[3]。

10 µm – 1971年 6 µm – 1974年 3 µm – 1977年 1.5 µm – 1982年 1 µm – 1985年 800 nm – 1989年 600 nm – 1994年 350 nm – 1995年 250 nm – 1997年 180 nm – 1999年 130 nm – 2001年 90 nm – 2004年 65 nm – 2006年 45 nm – 2008年 32 nm – 2010年 22 nm – 2012年 14 nm – 2014年 10 nm – 2017年 7 nm – 2018年 5 nm – 2020年 3 nm – ~2022年 2 nm – ~2024年
晶體管數量